借助Turing繼任者Ampere，NVIDIA希望在生產方面邁出下一步，並在7nm-EUV過程中生產了三星。
更新4.7.2019：謠言已經流傳了幾週nvidias可能的從TSMC更改為三星作為下一個具有Ampere Architecture下一個圖形卡的芯片製造商。
現在，NVIDIA證實，韓國下一代圖形卡中至少有很大一部分。
三星的大量生產
NVIDIA韓國首席執行官Yoo Eung-Joon沒有給出更改的確切原因，但似乎可以想像三星7NM-EUV光刻過程已經比TSMC更成熟和便宜。
Yoo Eung-Joon還保持著合作範圍的範圍。但這是一個“實質性”生產高級圖形卡。這很可能是Nvidia的Ampere GPU。
但是，偶爾可能會在TSMC上生產Ampers模型。在Pascal（GTX 1000），這是相反-Nvidia和Samsung在2016年的入境 - 級別卡片GTX 1050和GTX 1050 TI，其餘的製成了TSMC。
三星可能比TSMC使用7nm-EUV石版畫更進一步，並且可以使Nvidia變得更好。
原始消息6.6.2019：如何WCCFTECH在上訴數字（付費沃爾）想要找到的是Nvidia的安培-GPU 為了 2020確認的。圖靈繼任者應該在三星 我是 7-nm-euv程序要製造 - 到目前為止，NVIDIA被認為是TSMC最忠實的客戶之一Amds Ryzen 3000和Radeon RX 5000由他們的7 nm程序製造。
在2018年7月已經有一個名稱的芯片GA104EEC的認證程序。從那以後，安培被認為是當前的安全繼任者圖靈卡（GTX 1600，RTX 2000） - Turing Generation目前在TSMC中在12 nm的過程中生產。
雷置和全球照明
Laut WCCFTECH WILL NVIDIA AMRTX概念繼續堅持並與安培一起進一步走一步 - 路徑追踪（對於全球照明）是實時渲染的下一步。
當前的高端卡即使使用低到中路跟踪設置也很快達到了極限，並且幾乎無法以1080p分辨率創建超過30 fps。
射線跟踪看起來非常好，但是由於高需求，目前幾乎不使用 - Nvidia應該走得更遠，並且可以實現路徑追踪。
與射線跟踪相反，在射線縮放中只追捕了幾條射線，以便能夠更逼真地表示反射表面的反射，隨機生成的射線是在路徑追踪的渲染方程中計算的 - 結果是可見的逼真的全球照明（全球照明）。
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三星代替TSMC？
NVIDIA長期以來在TSMC生產了芯片 - 可能會改變三星的改變，應該有充分的理由。
Nvidia的決定，長期合作夥伴TSMC轉過身三星防止偏好引發問題。蘋果公司負擔負擔的生產能力，Amds Ryzen 3000和Radeon RX 5700應該是一個可能的解釋。
但是，也可以想像三星提供了更好的報價或僅僅是領導者»極端紫羅蘭色«幻畫（euv）。 TSMC已經在7 nm的過程中產生，但仍然依賴於舊的浸入光刻。
光刻學
死沉浸也稱為193 nm石版畫，已經使用了幾年。借助SO值的多重結構，到目前為止，它可以落在所用的光波長之下。
簡而言之彼此搭配的結構，以避免光源的物理限制並實施遠低於193 nm實際波長的結構寬度。
但是，隨著要求越來越小，沉浸式光刻和分辨率改進程序也達到了限制。
EUV光刻被認為是未來幾年的技術 - 轉換是複雜而昂貴的。 （圖像：ASML）
作為不久的將來的關鍵技術，國際技術路線圖（ITR）具有euv-Lotighography選擇使用的電磁波，長度為13.5納米。
但是，這種新的曝光方法的變化是有問題且昂貴的，因為到目前為止所使用的技術無法再使用，並且必須使用全新的程序和生產過程。
三星的EUV程序可能已經比TSMC更成熟，並且可以為NVIDIA（技術和/或價格）提供更好的完整軟件包。關於AMD 7月宣布的Radeon-RX-5700系列NVIDIAS 7-nm的反應肯定是熱切期待的。