在今年的電子組件IEDM會議上（12月7日至11日國際電子設備會議），光刻系統ASML的荷蘭製造商也談到了英特爾工藝技術的未來。
根據首席執行官馬丁·範·丹·布林克（Martin van den Brink）的一部電影，英特爾甚至想使用1.4納米製造開始（通過維基奇）。
10納米和7納米
但是，最初是10 nm生產On，它已經從Ice Lake開始，用於低低電壓設備，可以在2021年以10 nm ++和10 nm +++結束。同年，應開始極端紫外線（EUV）過程中的7 nm質量生產。
大致確認了10 nm和7 nm生產的時期，至少英特爾本身沒有提供任何信息。 （圖像來源：Wikichip）
就像10 nm一樣，7 nm和所有隨後的技術節點（節點）應經曆三個版本，然後將其標記為沒有加號（x nm），帶有一個加號（x nm+），並帶有兩個加號（x nm ++） ）。
到這裡，來自ASML的信息匹配了Intel的已經大致已知的計劃。所以在2021年Ponte Vecchio（GPU）Intel的前7 nm代表串聯是基於XE架構生產的，儘管最初是用於Exascale服務器。
兩年的節奏，但沒有具體數字
但是，英特爾·維基奇（Intel Wikichip）已經要求澄清事實。因此，ASML使用了技術開發總監馬克·菲利普斯（Mark Phillips）的演講中的電影，但這發生了改變。
在原始中，沒有提及具體的結構寬度，而僅提及佔位符。
英特爾本身並未指示有關結構寬度的精確信息，但是可以從電影中讀取某些內容。 （圖像來源：Wikichip）
仍然可以從圖像材料中得出兩年的節奏。不要忘記ASML是世界上最大的光刻系統提供商，這就是為什麼即使變化的電影仍然具有一定的重量的原因。
這提供了2023年5 nm的生產，2025年和2027年的生產2029然後結構寬度為1.4 nm實現。
為了觀察有序的TSMC，該tsmc將在來年已經使用5納米芯片開始並希望增強3 nm產品的系列生產，即使英特爾最近在10 nm的生產中遇到困難，ASML提到的數字似乎並不是不現實的。
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